鍍層膜厚儀是一種專業測量儀器，它的主要作用是用來測量各種材料表面的膜厚，包括但不限于金屬、非金屬、有機物等。這種工具對于一些需要嚴格控制膜層厚度的制造工藝很重要，例如電子、半導體、航空航天等行業，因為它能夠確保生產過程中的質量和穩定性。
X射線鍍層膜厚儀可進行未知標樣掃描、無標樣定性，半定量分析，運行及維護成本低、無易損易耗品，對使用環境相對要求低。可針對客戶個性化要求量身定做輔助分析配置硬件。
鍍層膜厚儀的具體功能包括：測量材料表面的厚度、檢測其中的缺陷、分析膜層的成分和結構等。這些功能對于生產制造而言都很關鍵。通常來說，這種儀器采用光學、電磁、電子等不同的測量原理，每種原理都有各自的優缺點和適用范圍。因此，使用時也要根據具體的材料、厚度和需要掌握的信息來選擇合適的測量原理和儀器。
鍍層膜厚儀利用了光的波動性質以及薄膜的光學特性，在材料表面上形成干涉效應。
通過測量干涉光強的變化，可以推導出薄膜的厚度信息。鍍層膜厚儀主要由光源、分束器、反射鏡、檢測器等組件組成。當光源照射到材料表面上時，一部分光線被反射，一部分光線穿透材料并與反射光線發生干涉。
根據光的干涉現象，當兩束光線相遇時，如果它們的光程差為整數倍的波長，干涉疊加會增強光強；
如果光程差為半波長的奇數倍，干涉疊加會導致光強削弱。
通過調節鍍層膜厚儀中的光程差，可以實現對干涉光強的控制和觀測。
